Здавалка
Главная | Обратная связь

Внутренний квантовый выход люминесценции полупроводникового материала.



ИЗУЧЕНИЕ ХАРАКТЕРИСТИК ИЗЛУЧАЮЩЕГО ДИОДА

 

Лабораторная работа №2.

Изучение характеристик излучающего диода.

Цель работы: Изучение принципов работы излучающего диода и измерение его основных параметров.

Объект исследования: Набор свето- и ИК-диодов.

Задачи, решаемые в работе:

1. Ознакомиться с принципом работы и конструкционными особенностями излучающих диодов.

2. Измерить зависимость интенсивности излучения излучающих диодов от величины тока, протекающего через p-n переход.

3. Измерить и сравнить между собой спектры излучения набора излучающих диодов. Проанализировать изменение параметров излучения при различных значениях тока, протекающего через p-n переход излучающих диодов.

СВЕДЕНИЯ ИЗ ТЕОРИИ.

Излучающим диодом называется оптоэлектронный полупроводниковый прибор с p-n-переходом, преобразующий электрическую энергию в энергию оптического излучения в видимой (светоизлучающий диод) или инфракрасной (ИК-диод) областях спектра. Оптическое излучение возникает в активной области излучающего диода в процессе излучательной рекомбинации электронов и дырок.

 

Излучательная и безызлучательная рекомбинация.

Внутренний квантовый выход люминесценции полупроводникового материала.

В полупроводниках в зависимости от общего характера энергетического спектра, типа и концентрации легирующих примесей , наличия дефектов кристаллической структуры, температуры и условий возбуждения могут наблюдаться различные механизмы рекомбинации избыточных электронов и дырок. При некоторых из них испускаются кванты света (см.рис.1).

 

k
Eg
Ei
hv
Eg
Eg
Ei
hv
K0
k
E
Eg

 

 


a б

Eex
Eex
hv
hv
Ec
Ev
Ea
Ei
hv
Eg
Ea
k

 


в г

Рис. 1. Механизмы излучательной рекомбинации

в полупроводниках.

 

Механизмы излучательной рекомбинации.

1. В прямозонном полупроводнике (у которого минимум энергии в зоне проводимости и максимум энергии в валентной зоне соответствуют одному и тому же волновому вектору электрона) возможна межзонная рекомбинация без изменения волнового вектора. При этом механизме вся энергия электронно-дырочной пары преобразуется в энергию hν испускаемого фотона (процесс а на рис.1):

hν=Ei-Ej (1)

где Ei и Ej -энергии начального и конечного состояния электрона.

В условиях термодинамического равновесия темп межзонной излучательной рекомбинации (т.е. количество электронно-дырочных пар, рекомбинирующих в единице объема полупроводника в единицу времени) пропорционален концентрации дырок p0 и электронов n0 :

 

R0Mrp0n0rni2 (2)

 

Коэффициент пропорциональности γr в выражении (2) называется коэффициентом межзонной излучательной рекомбинации.

В равновесных условиях темп рекомбинации в точности равен количеству электронно-дырочных пар, возникающих в единицу времени в единице объема. В связи с этим количество излучаемых при рекомбинации внутри полупроводника фотонов совпадает с числом фотонов, поглощаемых в процессе оптической генерации электронно-дырочных пар.

Если же термодинамическое равновесие в полупроводнике нарушено, т.е. в результате внешнего возбуждения возникли избыточные концентрации ∆p и ∆n свободных дырок и электронов, темп межзонной рекомбинации возрастет:

RMrpn=γr(p0+∆p)(n0+∆n) (3)

и его превышение над равновесным темпом RM0 окажется равным

∆RM=RM-RM0= γr(pn-p0n0)= γr(p0∆n+∆pn0+∆p∆n)=

r(p0+n0+∆n) ∆n (4)

Избыточное количество излученных фотонов, соответствующее темпу рекомбинации RM , в принципе может быть выведено из активной области полупроводника.

2. При межзонной излучательной рекомбинации с изменением волнового вектора электрона (возможной в непрямозонном полупроводнике), наряду с излучением фотона, происходит испускание или поглощение одного или нескольких фононов (процесс бна рис.1). Это участие фононов обеспечивает требуемое изменение волнового вектора электрона в акте рекомбинации, однако приводит к существенному (на несколько порядков величины) уменьшению коэффициента γr в формулах (2)-(4) , т.е. темпа излучательной рекомбинации.

Энергия фотона,излучаемого при непрямом переходе, отличается от разности энергий начального и конечного состояния электрона на величину энергии Eф фонона (или группы фононов), участвующего в акте рекомбинации.

hν=Ei-Ej±Eф (5)

3. Излучательная рекомбинация (аннигиляция) экситонов (процесс вна рис.1) имеет место в случаях, когда до рекомбинации образуются пары из электрона и дырки, соединенные за счет кулоновского взаимодействия -свободные экситоны. Дело в том, что при поглощении света полупроводником возможно такое возбуждение электрона валентной зоны, при котором он не переходит в зону проводимости, а образует с дыркой связанную пару-квазичастицу. Если такая пара оказывается связанной с атомом примеси или другим точечным структурным дефектом, то образуется связанный экситон. В непрямозонных полупроводниках излучение, возникающее при рекомбинации связанных экситонов, может быть даже более интенсивным, чем межзонное излучение.

4. Рекомбинация свободного электрона с дыркой, находящейся на акцепторном уровне (как и свободной дырки – с электроном на донорном уровне), также может приводить к излучению фотона (процесс гна рис.1). Для этого случая темп излучательной рекомбинации можно представить формулами, аналогичными выражениям (3) и (4):

Rannpa , (6)

∆Ra= Ra- Raon (npa-n0pao)= γn(∆npao+no∆pa+∆n∆pa)=

n (pao+∆pa) ∆n, (7)

где γn - коэффициент захвата электрона акцепторным уровнем,

pa=pa(NaT) - концентрация дырок, находящихся на акцепторном уровне,

Na - полная концентрация акцепторов, ∆pa=pa-pao.

Индекс o относится к равновесному состоянию полупроводника.

 

Энергия фотонов, излучаемых в процессах типа г на рис.1, равны:

hν=Ei-Ea (8) и hν=Ed-Ej (9)

Где Ea и Ed - энергии электрона на акцепторном и донорном уровнях.

Механизмы безызлучательной рекомбинации.

1. В реальном кристалле полупроводника имеются примесные атомы или дефекты кристаллической структуры, при рекомбинации с участием которых не происходит излучение фотонов. Предполагается, что такой центр создает квазинеприрывный спектр энергетических уровней в запрещенной зоне, соответствующих возбужденным состояниям. Энергия электронно-дырочной пары при рекомбинации на таком центре переходит в энергии последовательно испускаемых фононов, т.е. расходуется на нагрев кристалла (механизм безызлучательной фононной рекомбинации – процесс а на рис.2).

2. Еще одним механизмом безызлучательной рекомбинации является оже-рекомбинация (процесс б на рис.2). при оже-процессе энергия, высвобождаемая рекомбинирующей электронно-дырочной парой, немедленно поглощается третьим свободным носителем, например электроном, который затем рассеивает эту энергию путем испускания фононов.

Внутренний квантовый выход люминесценции.

Охарактеризуем в общем виде излучательную способность полупроводникового материала с учетом существования излучательных и безызлучательных механизмов рекомбинации. Избыточный темп рекомбинации носителей заряда в условиях возбуждения полупроводника можно представить в виде суммы двух слагаемых:

, (10)

где τ - время жизни избыточных носителей заряда,

(11)

- темп рекомбинации электронов за счет излучательных процессов и

(12)

- темп безызлучательной рекомбинации.

Величины и в выражениях (11) и (12) можно рассматривать как времена жизни электронов, обусловленные, соответственно, излучательными и безызлучательными рекомбинационными процессами. Из выражений (10) – (12) вытекает соотношение (13)

 

Ec
Ev

 


a

Ec
Ev

 

 


б

 

Рис. .2. Механизмы безызлучательной рекомбинации.

Для количественной характеристики излучательной способности полупроводникового материала вводится понятие внутреннего квантового выхода люминесценции ηi , который показывает, какая доля носителей заряда рекомбинирует с излучением фотонов:

(14)

Таким образом, излучательная способность любого полупроводникового материала определяется соотношением существующих в нем излучательных и безызлучательных механизмов рекомбинации. Преобладанию излучательных механизмов рекомбинации в полупроводнике соответствует значение внутреннего квантового выхода ηi которое достигается при . Выполнению этого соотношения способствует выбор полупроводника с большим значением γr (см. выражение ( 4 )), введение в полупроводниковый материал специальных излучательных центров (см. выражение ( 7 )), а также уменьшение концентраций структурных дефектов и примесей, являющихся центрами безызлучательной рекомбинации.

 







©2015 arhivinfo.ru Все права принадлежат авторам размещенных материалов.