Польові транзистори
Польові транзистори дуже добре вписуються в загальну технологію біполярних інтегральних схемах і тому часто виготовляються спільно з біполярними транзисторами на одному кристалі. Типові структури польовиків, розміщені в ізольованих кишенях і показані на малалюнку нижче. В цій структурі р-слой затвор формується на етапі базової дифузії, яка забезпечує омічний контакт з областями витоку і стоку, на етапі емітерної дифузії. Помітимо, що р-шар затвору оточує стік з усіх боків, так що струм між витоком і стоком може протікати тільки через керований канал. В n-кишенях, призначених для ІТ, замість прихованого n+-шару здійснюється прихований р+-шар. Призначення цього шару – зменшити початкову товщину каналу а і тим самим напругу відсічення. Здійснення прихованого р+-слоя пов’язано з додатковими технологічними операциями. На підкладку, а значить, і на р+-слой задають постійний (максимально негативний) потенціал; тому вони не виконують управляючих функцій. За принципом дії польовий транзистор дуже схожий на водопровідний кран. Носії заряду протікають через канал, обмежений з одного боку підкладкою, в якій не може протікати струм, бо в ній немає носіїв заряду, та областю збіднення, яка утворюється під затвором завдяки контактній різниці потенціалів. Шириною області збіднення можна управляти, прикладаючи до затвора напругу. При прикладенні зворотної напруги область збіднення розширюється і перекриває більшу частину каналу. В канал наче висувається заслінка. При певному значенні зворотної напруги область збіднення повністю перекриває канал. Струм через канал зменшується. В цьому випадку говорять, що транзистор запертий. Відповідне значення напруги називається напругою запирання. При прикладенні до затвора прямої напруги, канал розширюється, пропускаючи більший струм.
Використання польових транзисторів в електроніці принесло великий вклад в розвиток цифрової техніки і являється її незмінною складовою. ©2015 arhivinfo.ru Все права принадлежат авторам размещенных материалов.
|