Здавалка
Главная | Обратная связь

Изготовление маскирующего изображения.



Способ создания масок на отдельных основах заключ в том что сначала готовят 2 голубые копии, одна из них имеет прямое, а другая - зеркальное изображение. На гол копии с прям изображением готовят маску фоновых эл-тов. Голубую копию с обратным изображением покрывают слоем нитроплёнки и после высушивания наносят светочувствительный слой на основе хромированной камеди сибирской лиственницы. Далее на светочув слой накладывают маску и проводят экспонирование. Как и в предыдущем случае под прозрачными участками светочув слой задубится, а под непрозрачными останется без изменений. После экспонирования маску снимают, накладывают необходимую позитивную сетку и проводят повторное экспонирование. После обработки и удаления задубленных участков слоя будет создана сетка. Сеё способ позволяет пять-шесть раз копировать изображение в один диапозитив. Плюсы: во всех случаях сохр маска фоновых элементов, непосредственный контакт маски и светочув слоя обесп точное совмещение сетки по контурам изображения. Изготовление масок может проводиться одновременно несколькими исполнителями. Минусы: для изготовления масок требуется больше пластика, чем при способе создания масок на обратной стороне диапозитива. Данный способ целесообразно применять тогда, когда имеются фоновые элементы, сложные по конфигурации.

Технология изготовления масок следующая:

1)Для каждого градационного перехода изгот. печатную маску.

2)Формирование общей маски.

3)Подготовка подложки и нанесения голубого абрисного изображ.

4)нанесение полиров. слоя.

5)экспонир. под общей маской.

6)Эксп. под негат. масками.

7) Проявление.

8)окрашивание.

9)Снятие задубленного слоя.

10)Промывка.

11)Сушка.

12)Корректура.

Негат. маски наиб. часто делаются способом снятия слоя – экономично и быстро. общую позитивную маску делают способом вымывного рельефа с негат. масок, коируют столько раз, сколько негативных масок, а проявляют и окрашивают 1 раз. Совмещение- по штрихам.Предварительно пластик перфарируют. Общая маска (ОМ) изгот. для того, чтобы задубить копировальный слой камедью сибирской лиственницы в тех местах, где не будет выводиться сетка.

После задубл. копир. слоя над общей маской вводятся различные сетки, применяя изгот ранее негат. маски (НМ). «+» 1)сокращ. технологич. цикл, за счёт однократного проявления и окрашивания копий. 2) Хорошее кач-во сеточных эл-тов.

 

 







©2015 arhivinfo.ru Все права принадлежат авторам размещенных материалов.