Обеспечение стабилизации режима покоя
Серьезным недостатком транзистора является сильная зависимость его выходных параметров от температуры. При работе прибора его температура повышается вследствие выделения большой части энергии, подводимой от источника питания Е
, в самом транзисторе. При этом следует иметь в виду малую теплопроводность полупроводниковых материалов.
В биполярном транзисторе при повышении температуры наблюдается смещение семейства выходных характеристик в область больших значений коллекторного тока из-за существенного увеличения обратного тока коллекторного перехода, что следует из соотношения (1.4). Это приводит к изменению положения точки покоя на выходной характеристике транзистора, иллюстрируемое рис.2.8,а, и, следовательно, к изменению выходных параметров усилительного каскада в целом.
С целью обеспечения стабилизации точки покоя на выходной характеристике при изменении температуры транзистора в процессе эксплуатации в эмиттерную цепь схемы каскада включается резистор R
. Действие этого резистора иллюстрируется построениями на рис.2.8.
Пусть на рис.2.8,а нижняя вольт-амперная характеристика соответствует температуре Т
транзистора и току базы IБП, верхняя – повышенной температуре Т
и тому же значению тока базы IБП. Токи коллектора и напряжения коллектор-эмиттер в точках покоя при температурах Т
и Т
обозначены как I
, I
, U
, U
. Как видно из рис.2.8,а, повышение температуры транзистора приводит к смещению точки покоя, так что I
< I
, U
>U
.

Рис.2.8. Построения, иллюстрирующие стабилизирующее
действие резистора R
на точку покоя:
а – на выходной характеристике транзистора,
б – на входной характеристике транзистора
Увеличение коллекторного, а, следовательно, и эмиттерного тока при увеличении температуры приведет к увеличению падения напряжения на резисторе R
. Согласно второму закону Кирхгофа, записанному для контура, содержащего резисторы R
и R
, а также междуэлектродный промежуток транзистора база-эмиттер,
I
R
+ UБЭП = I
R
, (2.9)
увеличение слагаемого I
R
в левой части соотношения (2.9) должно приводить к уменьшению напряжения UЭБП, так как величина тока делительной цепочки I
не зависит от температуры транзистора. На рис.2.8,б напряжение база-эмиттер при повышенной температуре Т
обозначено как U
, а соответствующий ему ток базы как I
. Ток
I
меньше значения IБП, относительно которого начинался проводимый анализ и для которого на рис.2.8,а проведена смещенная вверх вольт-амперная характеристика при повышенной температуре.
Уменьшение тока базы, вызванное повышением температуры транзистора, при наличии резистора R
приводит к смещению вольт-амперной характеристики на рис.2.8,а в область меньших коллекторных токов, т.е. в направлении к вольт-амперной характеристике, соответствующей температуре Т
. Этим достигается стабилизация положения точки покоя транзистора на выходной характеристике, а, следовательно, и величин постоянных составляющих коллекторного тока и напряжения коллектор-эмиттер.
Стабилизирующее действие резистор R
будет оказывать и на переменную составляющую тока выходной цепи, если этот ток будет протекать через резистор R
. Между тем, как следует из анализа с помощью рис.2.6, для обеспечения процесса усиления необходимо перемещение рабочей точки по линии нагрузки в течение периода входного сигнала. Указанное противоречие устраняется шунтированием резистора R
конденсатором С
, в результате чего переменная составляющая эмиттерного тока будет протекать в обход резистора R
. Для увеличения шунтирования необходимо, чтобы сопротивление резистора было бы существенно больше емкостного сопротивления конденсатора С
для переменной составляющей тока.
<< R
. (2.10)
Изменение тока эмиттера, вызванное разогревом транзистора в процессе работы, происходит гораздо медленнее по сравнению с изменением тока под действием входного сигнала достаточно высокой частоты ω, а на низких частотах шунтирующее действие конденсатора С
не проявляется из-за очень высокой величины его сопротивления. Следовательно, наличие конденсатора С
не отражается на стабилизацию точки покоя.
©2015 arhivinfo.ru Все права принадлежат авторам размещенных материалов.