Инжекционные лазеры на гомопереходах.
При соединении вырожденных полупроводников n- и p-типов на короткое время возникает инверсное состояние между участком, примыкающим к дну зоны проводимости, и участком вблизи потолка валентной зоны, которое затем быстро исчезает. Часть электронов из зоны проводимости переходит в валентную зону и уровни Ферми выравниваются (рис.1.29).
рис.1.29 Поэтому для поддержания состояния с инверсией населенностей необходимо приложить к p-n переходу внешнее электрическое поле, которое будет осуществлять инжекцию электронов в зону проводимости и дырок в валентную зону (рис.1.30).
рис.1.30
Условие, необходимое для обеспечения инверсии, создается при ЕFn– EFp= E, (2.20) где ЕFn и ЕFp– энергия уровней Ферми в валентной зоне и зоне проводимости соответственно, Е – ширина запрещенной зоны. При рекомбинации электрона и дырки может быть испущен квант света с энергией Е = h . Таким образом условие, необходимое для получения вынужденного излучения, запишется Е h ЕFn – EFp (2.21) Cкорость инжекции электронов и дырок в запирающий слой должна быть достаточной для поддержания инверсного состояния. Отсюда определяется пороговый ток накачки. Величина внешнего напряжения для поддержания инверсного состояния должна быть не ниже U = E / e, (2.22) где е заряд электрона. Для полупроводника, например, из GaAs U = 1,5 В. Величина плотности инжекционного тока, при которой мощность вынужденного излучения равна потерям в переходе, называется пороговой плотностью тока jпор. При j<jпор – в лазере преобладает спонтанное излучение,при j>jпор - вынужденное излучение. Следует отметить, что пороговые плотности тока для полупроводниковых лазеров имеют большую величину и сильно зависят от температуры. Так для лазера на основе GaAs jпор 1∙105 А/см2 при Т = 300К (270С). Это очень большая плотность тока, приводящая к разогреву структуры, поэтому приемлемых плотностей тока можно достичь при охлаждении кристалла до Т=77К (уровень жидкого азота). В этом случае jпор 1∙103 А/см2. Реально работать полупроводниковые лазеры могут только при низких температурах. Отметим возможные способы снижения пороговой плотности тока. 1. jпор можно снизить за счет увеличения внутреннего квантового выхода к. к = число фотонов/ число электронов, прошедших через кристалл. Этого можно достичь использованием гетероструктур 2. jпор можно снизить за счет снижения потерь в резонаторе (оптическое ограничение в двойной гетероструктуре). 3. jпор можно снизить за счет уменьшения площади токоведущих контактов (полосковые лазеры). ©2015 arhivinfo.ru Все права принадлежат авторам размещенных материалов.
|